研究者検索結果一覧 鈴木 晶雄 鈴木 晶雄スズキ アキオ (Akio Suzuki) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 「研究テーマ一覧」形式 基本情報 所属大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科 教授,副学長学位博士(工学)(大阪府立大学)J-GLOBAL ID200901045331795099researchmap会員ID1000171268外部リンクhttp://ms-lab.elec.osaka-sandai.ac.jp/ 研究キーワード 4 物性電子工学 電子デバイス工学 Physical Electronic Engineering Electronic Devicers Engineering 研究分野 2 ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学 / 委員歴 2 2005年 日本真空協会 関西支部幹事 1998年 日本材料学会 企画事業委員会委員、半導体エレクトロニクス部門委員会委員 受賞 16 2004年 平成16年度電気学会論文発表賞受賞:パルスレーザ堆積法により作製したAZO系透明導電膜の結晶構造 2003年 平成15年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:Nd:YAGレーザを用いたPLD法により作製したβ-FeSi2のテンプレート導入効果 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:ArFエキシマレーザアニールによるβ-FeSi2薄膜の特性改善 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 第43回真空に関する連合講演会優秀ポスター賞 研究題目:パルスレーザー堆積法 で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム光記録膜 日本真空協会 もっとみる MISC 496 PLD法で作製した青色レーザー対応WO3追記型光記録膜(共著) レーザー学会学術講演会第25回年次大会 2005年1月 ArFおよびNd:YAGレーザーを用いて作製したAl-Zn-O系透明導電膜(共著) レーザー学会学術講演会第25回年次大会 2005年1月 PLD法により作製したWO3光記録膜(共著) 電気関係学会関西支部連合講演会 2004年11月 高純度Fe基板上にPLD法により作製したβ-FeSi2薄膜の特性評価(共著) 電気関係学会関西支部連合講演会 2004年11月 PLD法による酸化亜鉛系透明導電膜の低温成膜プロセス化(共著) 電気関係学会関西支部連合講演会 2004年11月 もっとみる 所属学協会 9 日本太陽エネルギー学会 日本材料学会 日本MRS学会 レーザー学会 日本真空協会 もっとみる Works(作品等) 3 大手材料メーカー 2002年 大手家電メーカー 2002年 大手金属材料メーカー 2001年 共同研究・競争的資金等の研究課題 9 環境半導体に関する研究 その他の研究制度 1999年 Study on Ecologicaly Friendly Semiconductor The Other Research Programs 1999年 TCO (Transparent Conducting Oxide)薄膜に関する研究-主として超低抵抗ZnO(酸化亜鉛)系透明導電膜(スーパーAZO)- その他の研究制度 1993年 Study on Transparent Conducting Oxide Thin Films The Other Research Programs 1993年 酸化物光記録膜に関する研究-主として超高密度積層型光ディスク- その他の研究制度 1975年 Study on Optical Recording oxide Films The Other Research Programs 1975年 環境半導体に関する研究 酸化物光記録膜に関する研究-主として超高密度積層型光ディスク- TCO (Transparent Conducting Oxide)薄膜に関する研究-主として超低抵抗ZnO(酸化亜鉛)系透明導電膜(スーパーAZO)- 1
鈴木 晶雄スズキ アキオ (Akio Suzuki) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 「研究テーマ一覧」形式 基本情報 所属大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科 教授,副学長学位博士(工学)(大阪府立大学)J-GLOBAL ID200901045331795099researchmap会員ID1000171268外部リンクhttp://ms-lab.elec.osaka-sandai.ac.jp/ 研究キーワード 4 物性電子工学 電子デバイス工学 Physical Electronic Engineering Electronic Devicers Engineering 研究分野 2 ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学 / 委員歴 2 2005年 日本真空協会 関西支部幹事 1998年 日本材料学会 企画事業委員会委員、半導体エレクトロニクス部門委員会委員 受賞 16 2004年 平成16年度電気学会論文発表賞受賞:パルスレーザ堆積法により作製したAZO系透明導電膜の結晶構造 2003年 平成15年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:Nd:YAGレーザを用いたPLD法により作製したβ-FeSi2のテンプレート導入効果 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:ArFエキシマレーザアニールによるβ-FeSi2薄膜の特性改善 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 第43回真空に関する連合講演会優秀ポスター賞 研究題目:パルスレーザー堆積法 で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム光記録膜 日本真空協会 もっとみる MISC 496 PLD法で作製した青色レーザー対応WO3追記型光記録膜(共著) レーザー学会学術講演会第25回年次大会 2005年1月 ArFおよびNd:YAGレーザーを用いて作製したAl-Zn-O系透明導電膜(共著) レーザー学会学術講演会第25回年次大会 2005年1月 PLD法により作製したWO3光記録膜(共著) 電気関係学会関西支部連合講演会 2004年11月 高純度Fe基板上にPLD法により作製したβ-FeSi2薄膜の特性評価(共著) 電気関係学会関西支部連合講演会 2004年11月 PLD法による酸化亜鉛系透明導電膜の低温成膜プロセス化(共著) 電気関係学会関西支部連合講演会 2004年11月 もっとみる 所属学協会 9 日本太陽エネルギー学会 日本材料学会 日本MRS学会 レーザー学会 日本真空協会 もっとみる Works(作品等) 3 大手材料メーカー 2002年 大手家電メーカー 2002年 大手金属材料メーカー 2001年 共同研究・競争的資金等の研究課題 9 環境半導体に関する研究 その他の研究制度 1999年 Study on Ecologicaly Friendly Semiconductor The Other Research Programs 1999年 TCO (Transparent Conducting Oxide)薄膜に関する研究-主として超低抵抗ZnO(酸化亜鉛)系透明導電膜(スーパーAZO)- その他の研究制度 1993年 Study on Transparent Conducting Oxide Thin Films The Other Research Programs 1993年 酸化物光記録膜に関する研究-主として超高密度積層型光ディスク- その他の研究制度 1975年 Study on Optical Recording oxide Films The Other Research Programs 1975年 環境半導体に関する研究 酸化物光記録膜に関する研究-主として超高密度積層型光ディスク- TCO (Transparent Conducting Oxide)薄膜に関する研究-主として超低抵抗ZnO(酸化亜鉛)系透明導電膜(スーパーAZO)- 1