青木孝憲

研究者氏名	青木孝憲
	アオキタカノリ
URL
所属	大阪産業大学
部署	工学部電気電子情報工学科
職名	講師
学位	工学士(大阪産業大学)
科研費研究者番号	40268280
J-Global ID	200901021141928991

研究分野

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器 / 電子デバイス
ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器 / 物性電子工学

学歴

1988年

大阪産業大学工学部電気電子工学科

論文

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PLD法によりCOP基板上へ作製した酸化亜鉛系透明導電膜の諸特性

上野優樹青木孝憲鈴木晶雄松下辰彦奥田昌宏

電気学会論文誌C 129(11) 2009年11月 [査読有り]

パルスレーザー堆積法で作製した積層型透明導電膜の特性

生田公洋安居利将李坪燃青木孝憲鈴木晶雄松下辰彦奥田昌宏

日本真空協会誌真空 Vol.52(No.8) 465-467 2009年8月 [査読有り]

ポリマー基板上へ作製したZnOバッファ層によるAl添加ZnO透明導電膜の特性改善

上野優樹一井直弥上西俊道青木孝憲鈴木晶雄松下辰彦奥田昌宏

日本真空協会誌真空 52(3) 153-155 2009年 [査読有り]

Nd:YAGレーザーを用いた酸化亜鉛系透明導電膜へのアニール

中村圭太中村吉伸青木孝憲鈴木晶雄松下辰彦奥田昌宏

日本真空協会誌真空 52(3) 156-158 2009年 [査読有り]

Ultrathin Al-doped transparent conducting zinc oxide films fabricated by pulsed laser deposition

Akio Suzuki Masataka Nakamura Ryota Michihata Takanaori Aoki Tatsuhiko Matsushita Masahiro Okuda

THIN SOLID FILMS 517(4) 1478-1481 2008年12月 [査読有り]

Al-doped transparent conducting zinc oxide (AZO) films, approximately 20-110 nm-thick, were deposited on glass substrates at substrate temperatures between 200 and 300 degrees C by pulsed laser deposition (PLD) using an ArF excimer laser (lambda =...

MISC

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Transparent Conducting Zinc Oxide Films Fabricated on Cyclo-Olefin Polymer Substrates

Naoya ICHII Toshimichi KAMINISHI Takanori AOKI Tatsuhiko MATSUSHITA Akio SUZUKI Masahiro OKUDA

The 21th Symposium on Phase Change Optical Information Strage PCOS 2009 2009年11月 [査読有り]

Optical Recording Fe-Based Oxide Films Prepared by Radio-Frequency Magnetron Sputtering

Takanori AOKI Akio SUZUKI Kazuma MISHIRO Tatsuhiko MATSUSHITA Masahiro OKUDA

The 21th Symposium on Phase Change Optical Information Storage PCOS 2008 3-8 2008年11月 [査読有り]

Optical Recording Molybdenum-Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition

Kazuma MISHIRO Takanori AOKI Tatsuhiko MAtsushita Akio SUZUKI Masahiro OKUDA

Proceedings of the 19th Symposium on Phase Change Optical Information Storage PCOS 2007 21-26 2007年11月 [査読有り]

電界を印加したPLD法で作製した酸化亜鉛系透明導電膜

安倉秀明青木孝憲鈴木晶雄松下辰彦奥田昌宏

電気学会論文誌．Ｃ 125(11) 1641-1645 2005年

Approximately 150 nm-thick Al-doped zinc oxide (AZO) films with c-axis orientation have been prepared on glass substrates by pulsed laser deposition (PLD) using a split target divided into AZO(Al₂O₃ : 1 wt.%) and AZO(Al_2...

Nd：YAGレーザを用いたPLD法によるβ-FeSi₂薄膜の作製と評価（共著）

安井光弘青木孝憲鈴木晶雄松下辰彦奥田昌宏

電気学会論文誌C 124巻, 11号, 2202-2207(11) 2202-2207 2004年

β-FeSi₂ thin films were grown on Si(111) substrates by pulsed laser deposition (PLD) method using Nd: YAG Laser (λ = 1064 nm, laser energy = 50 mJ, laser energy density = 1.65 J/cm², repetition frequency = 10 Hz). In the fabr...

所属学協会

応用物理学会

電気学会

電子情報通信学会

日本真空協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

次世代超高密度光記録膜用新規酸化物材料に関する研究
日本学術振興会: 科学研究費助成事業奨励研究(A)
青木孝憲

研究期間: 2000年 - 2001年

研究テーマ

研究テーマ	酸化物光記録膜に関する研究
キーワード	酸化物、光記録膜

研究テーマ	透明導電膜に関する研究
キーワード	ZnO
概要	PLD法を用いてZnO系透明導電膜を作成し、低抵抗かつ高透光性を示す材料および成膜手法を開発する。

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電気電子情報工学科

青木 孝憲