研究者検索結果一覧 鈴木 晶雄 鈴木 晶雄スズキ アキオ (Akio Suzuki) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 「研究テーマ一覧」形式 基本情報 所属大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科 教授,副学長学位博士(工学)(大阪府立大学)J-GLOBAL ID200901045331795099researchmap会員ID1000171268外部リンクhttp://ms-lab.elec.osaka-sandai.ac.jp/ 研究キーワード 4 物性電子工学 電子デバイス工学 Physical Electronic Engineering Electronic Devicers Engineering 研究分野 2 ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学 / 委員歴 2 2005年 日本真空協会 関西支部幹事 1998年 日本材料学会 企画事業委員会委員、半導体エレクトロニクス部門委員会委員 受賞 16 2004年 平成16年度電気学会論文発表賞受賞:パルスレーザ堆積法により作製したAZO系透明導電膜の結晶構造 2003年 平成15年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:Nd:YAGレーザを用いたPLD法により作製したβ-FeSi2のテンプレート導入効果 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:ArFエキシマレーザアニールによるβ-FeSi2薄膜の特性改善 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 第43回真空に関する連合講演会優秀ポスター賞 研究題目:パルスレーザー堆積法 で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム光記録膜 日本真空協会 もっとみる MISC 496 プルームに磁場を印加したPLD法で作製したAZO系透明導電膜(II)(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 PLD法により作製した酸化物透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 Nd:YAGレーザーを用いて作製したβ-FeSi2薄膜のレーザーアニーリング効果(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 PLD法によるβ-FeSi2薄膜の生成およびレーザーアニールによる特性改善(2)(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi2薄膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(3), 99-102 2003年 (2003) β-FeSi2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果(共著) 真空協会論文誌、真空 46(3), 103-106 2003年 パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(3), 138-141 2003年 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(8), 632-635 2003年 パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(10), 752-755 2003年 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜(共著) 電気学会論文誌C 123巻, 11号, 1916-1920 2003年 PLD法により作製したZnO/In2O3積層構造光記録膜(共著) 電気学会論文誌C 123巻, 11号, 1925-1929 2003年 Rewritable optical recording In-Zn oxide films grown by pulsed laser deposition method(共著) SPIE 5060,154-159 2003年 Rewritable optical recording In-Zn oxide films grown by pulsed laser deposition method(jointly worked) SPIE 5060,154-159 2003年 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 メッシュを用いたPLD法で作製したGZO透明導電膜(2)(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 PLD法により作製したZnO/In2O3積層構造光記録膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 PLD法による酸化物積層型高密度光ディスクの作製(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 Nd:YAGレーザを用いたレーザアニーリングによるβ-FeSi2薄膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 ArFエキシマレーザアニールによるβ-FeSi2薄膜の特性改善(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 Optical Recording Characteristics of Zn-In Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition Method(共著) The 14th Symposium on Phase Change Optical Information Storage(PCOS2002) Session 3, 32-37 2002年11月 Optical Recording Characteristics of Zn-In Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition Method(jointly worked) The 14th Symposium on Phase Change Optical Information Storage(PCOS2002) Session 3, 32-37 2002年11月 メッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製したGZO透明導電膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 レーザーアブレーション法でプルームに磁場を印加して作製したAZO系透明導電膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 ArFエキシマレザーによりアニーリングを施したβ-FeSi2薄膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 β-FeSi2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 パルスレーザー推積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム光記録膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 プルームに磁場を印加したPLD法で作製したAZO系透明導電膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年9月 PLD法によるβ-FeSi2薄膜の生成およぴレーザーアニールによる特性改善(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年9月 PLD法を用いて作製した酸化物積層構造光記録膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年9月 Rewritable Optioal Recording In-Zn Oxide Films Grown by Pulsed Laser Deposition Method(共著) 6th International Symposium on Optical Storage (ISOS 2002) 2002年9月 Rewritable Optioal Recording In-Zn Oxide Films Grown by Pulsed Laser Deposition Method(jointly worked) 6th International Symposium on Optical Storage (ISOS 2002) 2002年9月 ZnO/In2O3スプリットターゲットを用いたPLD法により作製した積層構造光記録膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 PLD法によるFeターゲットを用いてSi(100)上に堆積させたβ-FeSi2薄膜のレーザーアニーリング(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 PLD法で作製したβ-FeSi2薄膜のレーザーアニーリングによる特性改善(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 メッシュを用いたPLD法により作製した透明導電膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi2)薄膜(共著) 真空協会論文誌、真空 45(3), 239-242 2002年 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜(共著) 真空協会論文誌、真空 45(3), 243-246 2002年 ブルーレーザー対応型高密度光ディスクにおける動的特性の改善(共著) 真空協会論文誌、真空 45(3), 247-250 2002年 Highly Conducting Transparent Conducting Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed(共著) Thin Solid Films 411, 23-27 2002年 Highly Conducting Transparent Conducting Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed(jointly worked) Thin Solid Films 411, 23-27 2002年 Optical Recording Films Prepared by Pulsed Laser Deposition Method Using the Split Target Consited of In2O3 and ZnO(共著) 相変化記録研究会シンポジウム 2001年12月 酸化物スプリットターゲットを用いたPLD法で作製した光記録膜(Ⅱ)(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 金属+酸化物混合薄膜を用いたブルーレーザ対応型高密度ディスク(Ⅱ)(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 メッシュを用いたPLD法で作製した透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 ArFエキシマレーザを用いスプリットターゲットを使用したPLD法で磁場下で作製した透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 ハイパワーレーザを用いたPLD法で作製した低抵抗透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 Nd:YAGレーザを用いたPLD法により作製したβ-FeSi2薄膜のレーザアニールによるエピタキシャル成長(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 高出カレーザを用いて作製した環境半導体β-FeSi2薄膜キャップのエキシマレーザエツチング(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 Highly Conducting Transparent Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition(共著) 2nd International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics 2001年11月 Highly Conducting Transparent Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition(jointly worked) 2nd International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics 2001年11月 «12345» 所属学協会 9 日本太陽エネルギー学会 日本材料学会 日本MRS学会 レーザー学会 日本真空協会 もっとみる Works(作品等) 3 大手材料メーカー 2002年 大手家電メーカー 2002年 大手金属材料メーカー 2001年 共同研究・競争的資金等の研究課題 9 環境半導体に関する研究 その他の研究制度 1999年 Study on Ecologicaly Friendly Semiconductor The Other Research Programs 1999年 TCO (Transparent Conducting Oxide)薄膜に関する研究-主として超低抵抗ZnO(酸化亜鉛)系透明導電膜(スーパーAZO)- その他の研究制度 1993年 Study on Transparent Conducting Oxide Thin Films The Other Research Programs 1993年 酸化物光記録膜に関する研究-主として超高密度積層型光ディスク- その他の研究制度 1975年 もっとみる
鈴木 晶雄スズキ アキオ (Akio Suzuki) ダウンロードする帳票の形式を下記より選択して下さい 「教育研究等環境」形式 「文科省帳票様式第4号 ①履歴書」形式 「文科省帳票様式第4号 ②教育研究業績書」形式 「研究テーマ一覧」形式 基本情報 所属大阪産業大学 工学部 電子情報通信工学科 教授,副学長学位博士(工学)(大阪府立大学)J-GLOBAL ID200901045331795099researchmap会員ID1000171268外部リンクhttp://ms-lab.elec.osaka-sandai.ac.jp/ 研究キーワード 4 物性電子工学 電子デバイス工学 Physical Electronic Engineering Electronic Devicers Engineering 研究分野 2 ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器 / ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学 / 委員歴 2 2005年 日本真空協会 関西支部幹事 1998年 日本材料学会 企画事業委員会委員、半導体エレクトロニクス部門委員会委員 受賞 16 2004年 平成16年度電気学会論文発表賞受賞:パルスレーザ堆積法により作製したAZO系透明導電膜の結晶構造 2003年 平成15年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:Nd:YAGレーザを用いたPLD法により作製したβ-FeSi2のテンプレート導入効果 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:ArFエキシマレーザアニールによるβ-FeSi2薄膜の特性改善 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 平成14年度電気関係学会関西支部連合大会 学会奨励賞 研究題目:磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜 電気関係学会関西支部連合大会 2002年 第43回真空に関する連合講演会優秀ポスター賞 研究題目:パルスレーザー堆積法 で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム光記録膜 日本真空協会 もっとみる MISC 496 プルームに磁場を印加したPLD法で作製したAZO系透明導電膜(II)(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 PLD法により作製した酸化物透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 Nd:YAGレーザーを用いて作製したβ-FeSi2薄膜のレーザーアニーリング効果(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 PLD法によるβ-FeSi2薄膜の生成およびレーザーアニールによる特性改善(2)(共著) 応用物理学関係連合講演会 2003年3月 ArFエキシマレーザーによりレーザーアニーリングを施したβ-FeSi2薄膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(3), 99-102 2003年 (2003) β-FeSi2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果(共著) 真空協会論文誌、真空 46(3), 103-106 2003年 パルスレーザー堆積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム系光記録膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(3), 138-141 2003年 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(8), 632-635 2003年 パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜(共著) 真空協会論文誌、真空 46(10), 752-755 2003年 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜(共著) 電気学会論文誌C 123巻, 11号, 1916-1920 2003年 PLD法により作製したZnO/In2O3積層構造光記録膜(共著) 電気学会論文誌C 123巻, 11号, 1925-1929 2003年 Rewritable optical recording In-Zn oxide films grown by pulsed laser deposition method(共著) SPIE 5060,154-159 2003年 Rewritable optical recording In-Zn oxide films grown by pulsed laser deposition method(jointly worked) SPIE 5060,154-159 2003年 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 メッシュを用いたPLD法で作製したGZO透明導電膜(2)(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 PLD法により作製したZnO/In2O3積層構造光記録膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 PLD法による酸化物積層型高密度光ディスクの作製(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 Nd:YAGレーザを用いたレーザアニーリングによるβ-FeSi2薄膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 ArFエキシマレーザアニールによるβ-FeSi2薄膜の特性改善(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2002年11月 Optical Recording Characteristics of Zn-In Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition Method(共著) The 14th Symposium on Phase Change Optical Information Storage(PCOS2002) Session 3, 32-37 2002年11月 Optical Recording Characteristics of Zn-In Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition Method(jointly worked) The 14th Symposium on Phase Change Optical Information Storage(PCOS2002) Session 3, 32-37 2002年11月 メッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製したGZO透明導電膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 レーザーアブレーション法でプルームに磁場を印加して作製したAZO系透明導電膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 ArFエキシマレザーによりアニーリングを施したβ-FeSi2薄膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 β-FeSi2薄膜のNd:YAGレーザーによるアニーリング効果(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 パルスレーザー推積法で作製した酸化亜鉛・酸化ガリウム光記録膜(共著) 第43回真空に関する連合講演会 2002年10月 プルームに磁場を印加したPLD法で作製したAZO系透明導電膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年9月 PLD法によるβ-FeSi2薄膜の生成およぴレーザーアニールによる特性改善(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年9月 PLD法を用いて作製した酸化物積層構造光記録膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年9月 Rewritable Optioal Recording In-Zn Oxide Films Grown by Pulsed Laser Deposition Method(共著) 6th International Symposium on Optical Storage (ISOS 2002) 2002年9月 Rewritable Optioal Recording In-Zn Oxide Films Grown by Pulsed Laser Deposition Method(jointly worked) 6th International Symposium on Optical Storage (ISOS 2002) 2002年9月 ZnO/In2O3スプリットターゲットを用いたPLD法により作製した積層構造光記録膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 PLD法によるFeターゲットを用いてSi(100)上に堆積させたβ-FeSi2薄膜のレーザーアニーリング(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 PLD法で作製したβ-FeSi2薄膜のレーザーアニーリングによる特性改善(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 メッシュを用いたPLD法により作製した透明導電膜(共著) 応用物理学会学術講演会 2002年3月 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi2)薄膜(共著) 真空協会論文誌、真空 45(3), 239-242 2002年 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜(共著) 真空協会論文誌、真空 45(3), 243-246 2002年 ブルーレーザー対応型高密度光ディスクにおける動的特性の改善(共著) 真空協会論文誌、真空 45(3), 247-250 2002年 Highly Conducting Transparent Conducting Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed(共著) Thin Solid Films 411, 23-27 2002年 Highly Conducting Transparent Conducting Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed(jointly worked) Thin Solid Films 411, 23-27 2002年 Optical Recording Films Prepared by Pulsed Laser Deposition Method Using the Split Target Consited of In2O3 and ZnO(共著) 相変化記録研究会シンポジウム 2001年12月 酸化物スプリットターゲットを用いたPLD法で作製した光記録膜(Ⅱ)(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 金属+酸化物混合薄膜を用いたブルーレーザ対応型高密度ディスク(Ⅱ)(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 メッシュを用いたPLD法で作製した透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 ArFエキシマレーザを用いスプリットターゲットを使用したPLD法で磁場下で作製した透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 ハイパワーレーザを用いたPLD法で作製した低抵抗透明導電膜(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 Nd:YAGレーザを用いたPLD法により作製したβ-FeSi2薄膜のレーザアニールによるエピタキシャル成長(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 高出カレーザを用いて作製した環境半導体β-FeSi2薄膜キャップのエキシマレーザエツチング(共著) 電気関係学会関西支部連合大会 2001年11月 Highly Conducting Transparent Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition(共著) 2nd International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics 2001年11月 Highly Conducting Transparent Indium Tin Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition(jointly worked) 2nd International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics 2001年11月 «12345» 所属学協会 9 日本太陽エネルギー学会 日本材料学会 日本MRS学会 レーザー学会 日本真空協会 もっとみる Works(作品等) 3 大手材料メーカー 2002年 大手家電メーカー 2002年 大手金属材料メーカー 2001年 共同研究・競争的資金等の研究課題 9 環境半導体に関する研究 その他の研究制度 1999年 Study on Ecologicaly Friendly Semiconductor The Other Research Programs 1999年 TCO (Transparent Conducting Oxide)薄膜に関する研究-主として超低抵抗ZnO(酸化亜鉛)系透明導電膜(スーパーAZO)- その他の研究制度 1993年 Study on Transparent Conducting Oxide Thin Films The Other Research Programs 1993年 酸化物光記録膜に関する研究-主として超高密度積層型光ディスク- その他の研究制度 1975年 もっとみる